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精密刻蚀镀膜系统PECS Ⅱ 685

仪器编号
PECS Ⅱ 685
照片
生产厂家
欧波同有限公司
仪器介绍
离子源；离子枪两支配有稀土磁铁的潘宁离子枪，高性能无耗材；抛光角度±10°，每支离子枪可独立调节；离子束能量100 eV到8.0 keV离子束流密度10 mA/cm2峰值；离子束直径可用气体流量计或放电电压来调节样品台；样品大小：最大直径32mm，最大高度15mm；样品装载：对于截面样品抛光采用llionTM Ⅱ专利的样品挡板，二次再加工位置精确；样品抛光及镀膜功能：兼具有平面抛光、截面抛光及溅射镀膜功能，靶材数：2个；靶材切换：无需破坏真空，可直接切换；样品旋转：1到6rpm可调；束流调制：角度可调的单

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