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仪器编号: Synchrotron Optics
仪器参数: [{"组件类别":"光学元件"}]
生产厂家: 北京众星联恒科技有限公司
仪器介绍: 全反射镜：多年以来，GKSS研究中心一直在为高达200电子伏特的XUV范围内的应用领域以及自由电子激光（FEL）开发专用的光学器件。之所以有这项研究，是因为有关方面无法预测汉堡德国电子同步加速器（Desy）处的TESLA试验设施所辖FEL产生的峰值脉冲强度。 50 cm的同步加速器光学器件：未涂敷和已涂敷的Si衬底为避免辐射损伤，我们研究了吸收程度可能最低且具有高反射率的低原子数Z元素膜。下图展示了碳层组成的全反射镜的优越性能。这种镜子由GKSS用磁控管溅射法制备而成，其Si衬底上涂有35纳米厚的单一碳层。该碳层在所关注的整个应用范围（50到250电子伏特）内展现出了95%以上的良好反射率，这一数字与一种金刚石模拟层的最佳反射率相差无几。我们所生产的镜子长度可长达150 cm。 35纳米厚的全反射碳镜的反射率与能量的比较。为便于比较，我们用红色曲线展示了一种理想的金刚石模拟层（ρ＝3.5 g/cm3）。长达150 cm的涂层150 cm衬底上44.2纳米厚碳膜的厚度偏差图：峰谷值小于1纳米，均一性好于2%用于同步加速器的多条纹多层膜 Incoatec公司也生产适合您工作的优化型多层光学器件。凭借我们在诸多材料方面的多年经验，一款适合您的光学器件并不只是梦想。我们目前拥有50多种不同的标靶材料，并拥有不同层组合的涂敷经验。由于相互扩散和界面粗化的存在，理论上的最佳材料组合在实际中并不总是能相得益彰，不过我们能够为您找出最佳的可行之道。最后同样重要的是我们的沉积技术精度不俗，而这种高精度正是现代多层同步加速器光学器件所必需的。下图为一张透射电子显微（TEM）照片。我们能在任何梯度下沉积均一性小于0.1%的均匀薄膜。层间距为1.4纳米、对数为500的某多层镜Mo/B4C的TEM显微照片下图展示了用于瑞士光源（Swiss Light Source）处断层扫描射束线的多条纹光学器件。我们为反射能量介于10到22千电子伏特的应用领域生产了100层对和单一层厚为2纳米的Ru/C多层器件。下图中的第二种多层器件由单层厚度为1.5纳米的W/Is组成，适用的能量范围为22到45千电子伏特。这两种多层器件之间的Si 111衬底也是一种反射元件。此光学元件的长度为30 cm。在沉积这些多层器件时，其单层厚度的沉积精度在1%以下。未涂敷的Si衬底，以及在反射断层扫描射束线上反射诸多能量的已安装多条纹多层光学器件。（照片由PSI-SLS的M. Stampanoni惠供）

Synchrotron Optics---同步辐射光学组件

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