技术参数：
HPR-30真空过程气体分析系统(Process Gas Analyser)，适用于监测分析残余气体和真空工艺过程中的气体组成及变化。

应用：

   · CVD / PECVD / RIE / LPCVD / MOCVD
   · 真空涂覆/ 等离子刻蚀
   · 沉积溅射
   · 污染物研究
   · 基本压力辨别
   · 泄漏探测/ 实质泄漏/脱附分析
   · 除气/烘烤/泵效能
   · 反应室/过程气体污染物

特点：

   · 简洁的桌上型，移动推车或控制台架结构
   · Direct re-entrant流孔板，差式泵，以达到最适宜的灵敏度
   · 连续取样从10^-4mbar至1mbar.
   · 高灵敏度（最优可至5ppb），质量数可选至1000amu
   · 软离子化技术，分析复杂有机物，或表观MS研究
   · 稳定性好(24h之上，峰高变化小于±0.5%)
   · MASsoft软件控制，或由局域网进行多个系统控制
   · 气动阀自动控制；出现电力不足或压力过大等不安全状况时可启用手动隔离装置
   · 自动、同时数据取得、分析，实时显示、报警