PHI简介

ULVAC-PHI为全球超高真空表面分析仪器供应商的领导者，ULVAC-PHI创新的X射线光电子能谱技术（xps）、俄歇电子能谱技术（AES）、二次离子质谱技术等为客户在材料分析方面提供全面且独一无二的解决方案。所提供的仪器：X射线光电子能谱仪、俄歇电子能谱仪、动态二次离子质谱仪和飞行时间二次离子质谱仪，可解决客户端广泛的表面分析问题。主要应用在纳米技术、微机电、存储介质、生化材料、药物化学、家属、高分子、有机电子等领域。
X射线光电子能谱分析（XPS）是用X射线照射固体表面，测定表面深约10nm激发的光电子能谱图，来获取表面组成及化学结合状态的分析方法。

PHI X-tool产品特点：
·卓越的操作性并支持多国语言的分析软件：
   PHI X-tool软件支持简单直观的触摸屏操作，及全部的XPS测定操作；
   用户可从手动操作到自动操作（自动定性、定量、分析及完成报告）；
   操作性强，无论是否有经验，均可完成测定
   另，采用平板电脑，实现了智能的操作环境
·自动测试及自动报告：
   具备分析点的Auto-Z自动对中功能（高速自动的高度调整），绝缘样品的全自动中和功能
   实现测定位置的设定，未知样品的测定及分析
·PHI独有的最先进的硬件配置
   独有的扫描微聚焦X射线源（专利），分析面积在20μm~1.4mm
   采用低能电子和Ar离子同时作用绝缘体表面，实现自动电荷中和（专利）
   高性能的浮动Ar离子枪实现了高速度低损伤的深度分析