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俄歇电子能谱仪（Auger Electron Spectrometer, AES）为微电子业常见的表面分析技术之一。原理是利用一电子束为激发源，使表面原子之内层能级的电子游离出，原电子位置则会产生空穴，导致能量不稳定，此时外层电子会填补产生之电洞，进而释放能量传递至外层能级电子，造成接受能量的电子被激发游离，游离的电子即为Auger电子。因其具有特定的动能，所以能依据动能的不同来判定材料表面的元素种类。

PHI的710纳米探针俄歇扫描 提供高性能的俄歇（AES）频谱分析，俄歇成像和溅射深度分析的复合材料包括：纳米材料，催化剂，金属和电子设备。维持基于PHI CMA的核心俄歇仪器性能，和响应了用户所要求以提高二次电子（SE）成像性能和高能量分辨率光谱。PHI同轴筒镜分析器（CMA）采用和电子枪同轴的几何设计，在保证了高灵敏度和宽角度地收集俄歇电子，这是纳米分析技术的基础。为了提高SE成像性能，使用闪烁计数器，提高图像质量，另配备手柄旋钮操作再一次提高了易用性。在不用修改CMA和仍维持俄歇在纳米分析的优势下，再添加了高能量分辨率光谱模式，使化学态分析的可能再大大的提高。总括来说，PHI 710以优越的俄歇纳米探针从世界领先的俄歇表面分析仪器，提供了实用和成熟的技术，以满足纳米尺度所需要的广泛实验与研发的用途。

特点：

l   同轴几何设计和高灵敏度的俄歇电子谱：PHI 710的场发射电子源提供了一个高亮度而直径小于6 nm的电子束以产生二次电子成像。PHI 710的同轴几何使用了“同轴式分析器（CMA）”，保持高灵敏度的同时实现了宽角度的俄歇电子收集，即使样品是表面平滑或复杂的形状或高表面粗糙度，都可以确保迅速完成所有分析程序。

l   高稳定性成像平台：隔音罩与振动隔离器提供更稳定的成像和分析。隔音罩可以很好地将低频范围从30Hz到50kHz屏蔽到20dB左右的声压水平（SPL），并降低温度变化对SEM图像漂移的影响。新的振动隔离器也减少了地面振动对扫描电镜图像和小面积分析的影响。

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l   增强的SE图像用户界面：PHI 710增强SE成像性能，使用闪烁计数器在仪器上从而提高图像质量，配备手柄旋钮操作面更再次提高了使用的方便性。

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l   新的高分辨率光谱模式：随着PHI的新技术，能量分辨率可调从0.5%到0.05%。多种化学物质的状态可以更容易有效的被观察出来。

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l   PHI SmartSoft-AES用户界面：SmartSoft AES 是在 Windows 系统上运行的PHI 710 控制软件。软件设置的AES分析操作流程显示在屏幕上 ，即便是初学者也可以轻松掌握。为提高分析效率，该软件能同时呈现实时测量位置，SEM图、俄歇分布图。

应用领域：

l  半导体组件：缺陷分析、蚀刻／清洁残余物分析、短路问题分析、接触污染物分析、接口扩散现象分析、封装问题分析等、FIB组件分析

l  显示器组件：缺陷分析、蚀刻／清洁残余物分析、短路问题分析、接触污染物分析、接口扩散现象分析等

l  磁性储存组件：定义层、表面元素、接口扩散分析、孔洞缺陷分析、表面污染物分析、磁头缺陷分析、残余物分析等

l  玻璃及陶瓷材料：表面沉积物分析、清洁污染物分析、晶界分析等