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硅片氧沉淀特性的测定-间隙氧含量减少法

标准编号
GB/T 19444-2004
中图分类号
H26
ICS分类号
29.040
发布单位
国家标准化管理委员会
状态
现行
标准类别
国家标准
发布日期
2004-02-05
实施日期
2004-07-01
摘要
本标准规定了由测量硅片间隙氧含量的减少量来检验硅片氧沉淀特性的方法原理、取样规则、热处理程序、试验步骤、数据计算等内容。本标准用于定性比较两批或多批集成电路用硅片间隙氧沉淀特性。

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