你好
，欢迎来到试验技术专业知识服务系统
平台首页
中国工程院
中国工程科技知识中心
切换导航
首页
专题服务
认证认可
应急专栏
标准物质
仪器仪表
汽车
增材制造
专业工具服务
临界差在线计算
质控图在线生成
稳健统计
F检验
t检验
尧敦图
不确定度在线计算
资源服务
检测实验室服务能力查询
校准实验室服务能力查询
检测机构需求VS能力验证服务工具
实验室仪器对比查询
能力验证服务一览表和查询服务
优质检测机构Top10
试验人员能力查询
CSTM质量评价结果发布平台
数据分析可视化
试验方法对比
机构能力变化趋势分析
机构间技术能力对比
标准适用性对比
实验室综合能力评价
产品质量检测技术能力评价
行业资讯
登录 / 注册
表面化学分析.次级离子质谱分析法.用多δ层基准物质对硅进行深度校准的方法
标准编号
BS ISO 23812-2009
中图分类号
G04
ICS分类号
71_040_40
发布单位
英国标准学会(GB-BSI)
状态
现行
标准类别
国际标准
发布日期
2009-05-31
实施日期
2009-05-31
相似标准
表面化学分析.次级离子质谱测定法.使用多δ层参考材料的硅深度校准方法
(ISO 23812-2009)
表面化学分析.次级离子质谱分析法.用多δ层参考物质对硅进行深度校准的方法
(NF X21-066-2009)
表面化学分析.二次离子质谱分析法.硅中砷的深度剖析法
(BS ISO 12406-2010)
表面化学分析.次级离子质谱法.多δ层标准材料深度溶解参数的估算方法
(BS ISO 20341-2003)
表面化学分析.再生离子质量光谱测定.硅中硼的深仿形分析法
(BS ISO 17560-2002)
表面化学分析.次级离子质谱法.静态次级离子质谱法中相对强度数值范围的重复性和稳定性
(BS ISO 23830-2008)
表面化学分析.分析前样品的处理
(BS ISO 18117-2009)
表面化学分析.二次离子质谱.用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
(BS ISO 14237-2010)
表面化学分析.辉光放电质谱法(GD-MS).用法介绍
(BS DD ISO/TS 15338-2009)
表面化学分析.词汇
(BS ISO 18115-2001)
×
我的收藏-提示信息
已有收藏
：
新增
：
