你好
,欢迎来到试验技术专业知识服务系统
平台首页
中国工程院
中国工程科技知识中心
切换导航
首页
专题服务
认证认可
应急专栏
标准物质
仪器仪表
汽车
增材制造
专业工具服务
临界差在线计算
质控图在线生成
稳健统计
F检验
t检验
尧敦图
不确定度在线计算
资源服务
检测实验室服务能力查询
校准实验室服务能力查询
检测机构需求VS能力验证服务工具
实验室仪器对比查询
能力验证服务一览表和查询服务
优质检测机构Top10
试验人员能力查询
CSTM质量评价结果发布平台
数据分析可视化
试验方法对比
机构能力变化趋势分析
机构间技术能力对比
标准适用性对比
实验室综合能力评价
产品质量检测技术能力评价
行业资讯
登录 / 注册
表面化学分析.溅镀深度造型.利用分层系统作为标准物质的优选法
标准编号
JIS K0146-2002
中图分类号
G04
ICS分类号
71_040_50
发布单位
日本工业标准调查会(JP-JISC)
状态
现行
标准类别
国际标准
发布日期
2002-03-20
相似标准
表面化学分析.X射线光电子分光计.能量刻度的校准
(JIS K0145-2002)
表面化学分析.从硅片加工基准材料的表面上收集元素和化学方法及其通过总反射X射线荧光(TXRF)分光光度法的测定
(JIS K0160-2009)
表面化学分析.用总反射X-射线荧光(TXRF)测定法测定硅晶片的表面主要污染物
(JIS K0148-2005)
表面化学分析.静态二次离子质谱法用信息格式
(JIS K0168-2011)
表面化学分析.高分辨率螺旋电子光谱仪.元素和化学状态分析用能量标度的校准
(JIS K0166-2011)
表面化学分析.再生离子质量的光谱测定.硅中硼的深压型用方法
(JIS K0164-2010)
表面化学分析.次级离子质谱法.离子注入标样中相对灵敏度系数的测定
(JIS K0163-2010)
表面化学分析.俄歇电子光谱法.选定的仪器性能参数的描述
(JIS K0161-2010)
表面化学分析.辉光放电发射光谱测定法(GD-OES).使用说明
(JIS K0144-2001)
表面化学分析.X射线光电光谱法.选定的仪器性能参数的描述
(JIS K0162-2010)
×
我的收藏-提示信息
已有收藏
:
新增
: